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【发明公布】球体研磨工艺设计方法及球体高精度研磨方法_新昌浙江工业大学科学技术研究院_202311847564.4 

申请/专利权人:新昌浙江工业大学科学技术研究院

申请日:2023-12-29

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN117807783A

主分类号:G06F30/20

分类号:G06F30/20;G01N19/00;B24B37/025;B24B37/11;B24B37/27;B24B1/00;G06F30/17;G16C60/00;G06F119/14;G06F119/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要:本发明公开了球体研磨工艺设计方法,该设计方法引入了滑动比,且偏心圆沟槽研磨装置的上盘由不同材质的磨具块组合而成,使球体在研磨过程中不断改变自转角,改善研磨的均匀性,工艺设计过程中先对球体研磨轨迹进行仿真试验,最后采用通过仿真实验的加工参数进行加工实验,最终将经过加工实验验证的加工参数确定为工艺参数,设计方法简单,且工艺研发过程只需要针对通过仿真实验的工艺条件进行验证实验,工艺研发成本低,效率高。本发明还公开了前述设计方法确定的球体高精度研磨方法,加工参数以及磨具块材料由前述本发明的设计方法确定,可靠性高。

主权项:1.球体研磨工艺设计方法,其特征在于,所述设计方法包括步骤:S1,使用滑动比测量装置测量滑动比;所述滑动比测量装置包括底座1、测试盘2和上压盘3;所述底座1上设有一对导轨4,从而形成滑道;所述测试盘2放置于两根导轨4之间,可以滑动;所述底座1上还设有一组导向柱5,所述导向柱5上套设有弹簧6,所述上压盘3与所述导向柱5通过圆柱副结构连接;所述上压盘3的下表面设有V形槽301;所述V形槽301与所述导轨4平行;滑动比测量过程如下:将球体4放置于测试盘2和上压盘3之间,并使其位于V形槽301中;在V形槽301中标记球体4的初始位置,随后匀速拉动测试盘2,球体4会随着测试盘2的移动而发生移动,测试盘2匀速移动一定距离后停止,记录测试盘2移动距离,在V形槽301中标记球体4的最终位置,记录球体4在V形槽301中的移动距离;将球体4在V形槽301中的移动距离和测试盘2的移动距离的比值确定为滑动比;采用不同材质的测试盘2进行滑动比测量,备用;S2,利用matlab对研磨轨迹进行仿真;仿真模型包括上盘7和下盘8,所述下盘8能够以设定转速转动,且所述下盘8上偏心设有用于放置球体4的圆形沟槽801;所述上盘7可以对球体4施加压力;所述上盘7由不同材质的磨具块701组合而成;所述磨具块701的材质选自步骤S1中所测试的测试盘2;设定下盘转速、球体半径、滑动比、偏心距、沟槽半径、研磨压力、加工时间、采样点数、间隔时间后,进行仿真实验;若仿真出的研磨轨迹分布均匀性符合工艺要求,记下仿真参数备用;若仿真出的研磨轨迹分布均匀性不符合工艺要求,则调整仿真参数,重新仿真,直到仿真出的研磨轨迹分布均匀性符合工艺要求为止;S3,加工实验;按照仿真实验设定的参数进行加工实验,若加工后球体圆度符合工艺要求,将实验参数确定为工艺参数,工艺设计完成;若加工后球体圆度不符合工艺要求,更改仿真参数后,重新进行仿真实验和加工实验。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 新昌浙江工业大学科学技术研究院 球体研磨工艺设计方法及球体高精度研磨方法

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