申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2022-08-04
公开(公告)日:2024-04-02
公开(公告)号:CN117813558A
主分类号:G03F9/00
分类号:G03F9/00
优先权:["20210818 EP 21191859.4"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.04.02#公开
摘要:披露了一种用于测量衬底上的位于至少一个层下方的目标的方法。所述方法包括:利用包括至少一种泵浦波长的泵浦辐射激发所述至少一个层,以便在所述至少一个层内产生从所述目标反射的声波,由此在所述衬底的表面处产生所述目标的声学复制品;以及利用包括至少一种探测波长的探测辐射照射所述声学复制品,并且捕获从所述声学复制品散射的得到的经散射的探测辐射。所述激发步骤和所述照射步骤中的一个或两个步骤包括:在所述至少一个层的残余形貌上产生从所述目标得到的表面等离子体激元SPP。
主权项:1.一种用于测量衬底上的位于至少一个层下方的目标的方法,所述方法包括:利用包括至少一种泵浦波长的泵浦辐射激发所述至少一个层,以便在所述至少一个层内产生从所述目标反射的声波,由此在所述衬底的表面处产生所述目标的声学复制品;以及利用包括至少一种探测波长的探测辐射照射所述声学复制品,并且捕获从所述声学复制品散射的得到的经散射的探测辐射;其中,所述激发步骤和所述照射步骤中的一个或两个步骤包括:在所述至少一个层的残余形貌上产生从所述目标得到的表面等离子体激元SPP。
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权利要求:
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