申请/专利权人：大立光电股份有限公司

申请日：2023-09-27

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117805953A

主分类号：G02B5/08

分类号：G02B5/08;G02B1/10;G02B13/00;G02B1/04

优先权：["20220930 TW 111137285"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本揭示内容提供一种折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置，折反射光学膜设置于一基材的一表面且包含一反射膜以及一消光膜。反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜。消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬。借此，有助于达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。

主权项：1.一种折反射光学膜，设置于一基材的一表面，其特征在于，该折反射光学膜包含：一反射膜，设置于该基材的一有效光路区，且该反射膜包含：一反射金属膜，该反射金属膜的主要成分为铝；及一反射氧化膜，包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，其中该第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各该膜层的主要成分为氧化物，该反射金属膜较该第一反射氧化膜远离该基材，且该第二反射氧化膜较该反射金属膜远离该基材；以及一消光膜，设置于该基材的一非有效光路区，其中该消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，该深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，该深色金属膜的主要成分为金属铬，该深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且该深色膜较该第一抗反射膜远离该基材。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大立光电股份有限公司 折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置

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