申请/专利权人：武汉宇微光学软件有限公司

申请日：2023-12-05

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117454831B

主分类号：G06F30/392

分类号：G06F30/392;G06T3/4076;G06T7/13;G06T7/149;G06T7/181;G03F1/68

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开

摘要：本发明提供一种掩模版图形优化方法、系统及电子设备，属于计算光刻领域，方法包括：获取掩模版主图形边缘向内或向外移动预设距离后的新轮廓图形；当所述移动为向内移动时，将新轮廓图形以内的区域设置为主图形阴影区域；当所述移动为向外移动时，将新轮廓图形以外的区域设置为主图形阴影区域；基于所述主图形阴影区域对逆光刻求解得到的掩模梯度场进行筛选，以仅保留该区域内的掩模梯度场；基于筛选后的掩模梯度场生成掩模版的亚分辨率辅助图形。本发明采用主图形阴影区域约束提取的方法，能够有效生成满足制造要求且对曝光有积极影响的亚分辨率辅助图形，且可以有效限定主图形逆光刻优化过程的移动步长，提高掩模版图形的优化效率和质量。

主权项：1.一种掩模版图形优化方法，其特征在于，包括：获取掩模版主图形边缘向内或向外移动预设距离后的新轮廓图形；包括：在掩模版主图形边缘各点放置偏导数，得到矢量梯度场；对所述矢量梯度场进行积分，将积分值作为灰度值，得到辅助灰度图像；对主图形边缘进行分段，确定边缘各段的位置，之后基于所述预设距离和求得的矢量梯度场在所述辅助灰度图像上对所述边缘各段处的灰度值进行调制，且采用平滑函数调制其附近的灰度值，使得调制区域内的灰度值连续变化，得到更新的辅助灰度图像；采用截断阈值对更新的辅助灰度图像进行截取，提取一个多边形轮廓，若当前提取的多边形轮廓和原始主图形边缘各处的边缘位置距离与所述预设距离的差值均小于预设的极小值，则将其作为新轮廓图形；否则在更新的辅助灰度图像上对所述差值不小于预设极小值的各点的灰度值和其附近的灰度值迭代调制，直至最终提取的多边形轮廓上各点的所述差值均小于预设极小值；当所述移动为向内移动时，将新轮廓图形以内的区域设置为主图形阴影区域；当所述移动为向外移动时，将新轮廓图形以外的区域设置为主图形阴影区域；基于所述主图形阴影区域对逆光刻求解得到的掩模梯度场进行筛选，以仅保留该区域内的掩模梯度场；基于筛选后的掩模梯度场生成掩模版的亚分辨率辅助图形。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉宇微光学软件有限公司 一种掩模版图形优化方法、系统及电子设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD