申请/专利权人：西安交通大学;中国航发湖南动力机械研究所

申请日：2023-04-28

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN116496109B

主分类号：C04B41/89

分类号：C04B41/89

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2023.08.15#实质审查的生效;2023.07.28#公开

摘要：本发明公开了一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法，属于涂层技术领域。为解决传统环境障涂层Si粘结层与面层间的热生成氧化物对涂层的破坏作用，在原有基础上，在Si基层内部掺入了能够呈现片层串珠状分布的缓释稳定剂颗粒，该缓释稳定剂颗粒近球形，呈串珠状分布在涂层内部，使用等离子喷涂或火焰喷涂等热喷涂方式制备，经过低压环境下的真空或者惰性气氛热处理，使喷涂态涂层中A2O3缓释稳定剂膜将团聚转变为不连续分布的A2O3缓释稳定剂颗粒。该涂层中的缓释稳定剂可以有效减少TGO对涂层的破坏作用，延长涂层的服役寿命。

主权项：1.一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层的制备方法，其特征在于，对SiC基或SiN基的CMC表面进行预热，将含有缓释稳定剂的Si基合金粉末喷涂于SiC基或SiN基的CMC表面，生成一层厚度为5nm的A2O3为主的膜，得到Si基粘结层；再对Si基粘结层进行热处理，得到网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层；其中，所述含有缓释稳定剂的Si基合金粉末包括Si粉和摩尔数为Si粉摩尔数的10%~35%的缓释稳定剂粉，所述缓释稳定剂为Al、Y、Fe、Co或Ce，含有缓释稳定剂的Si基合金粉末的粒径为5~135μm，所述A2O3为Al2O3、Y2O3、Fe2O3、Co2O3或Ce2O3；热处理为在低氧分压环境下进行热处理，包括真空热处理或惰性气氛保护热处理，热处理温度为500~1200℃，热处理时间为2~24小时，热处理时环境中的氧含量为10-8~10-1Pa或氧分压为0.01~100ppm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安交通大学;中国航发湖南动力机械研究所 一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法

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