申请/专利权人：大立光电股份有限公司

申请日：2023-09-27

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117849924A

主分类号：G02B5/22

分类号：G02B5/22;G02B1/115;G02B13/00

优先权：["20221007 TW 111138232"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本揭示内容提供一种散景滤光膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置，散景滤光膜设置于一基材的一表面且包含一渐变厚度吸收膜以及一抗反射膜。抗反射膜包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜。基材在中心处的透光率大于基材在周边处的透光率。渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离基材的孔洞相对大于靠近基材的孔洞。渐变折射率膜的主要材质为金属氧化物。借此，有助于调控周边处的进光量达到离焦景色柔边的效果。

主权项：1.一种散景滤光膜，设置于一基材的一表面，其特征在于，该散景滤光膜包含：一渐变厚度吸收膜；以及一抗反射膜，包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜；其中，该基材在中心处的透光率大于该基材在周边处的透光率；其中，该高低折射率膜包含一第一高低折射率膜与一第二高低折射率膜，该渐变厚度吸收膜较该第一高低折射率膜远离该基材，该第二高低折射率膜较该渐变厚度吸收膜远离该基材，该渐变折射率膜较该第二高低折射率膜远离该基材；其中，该渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离该基材的所述多个孔洞相对大于靠近该基材的所述多个孔洞；其中，该渐变折射率膜的主要材质为金属氧化物；其中，该渐变折射率膜的膜厚为TNG，其满足下列条件：115.0nm≤TNG≤1000.0nm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大立光电股份有限公司 散景滤光膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置

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