买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】一种晶圆切割保护膜及其制备方法和应用_苏州赛伍应用技术股份有限公司_202410031444.5 

申请/专利权人:苏州赛伍应用技术股份有限公司

申请日:2024-01-09

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117844390A

主分类号:C09J7/30

分类号:C09J7/30;H01L21/67;C09J133/08;C09J7/25;C08F220/18;C08F220/14;C08F220/20;C08F220/06;C08F230/08

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明涉及一种晶圆切割保护膜及其制备方法和应用。本发明的晶圆切割保护膜包括依次设置的软质基材层、胶黏剂层和离型膜层;所述胶黏剂层的制备原料按重量份数计,包括以下的组分:软单体30份~60份、硬单体1份~30份、功能单体5份~20份、含硅单体0.5份~2份、引发剂0.1份~0.6份、交联剂0.1份~2份和溶剂20份~50份;所述软质基材层的材料选自经电晕处理的PO膜、经电晕处理的PVC膜和经电晕处理的PE膜中的一种或多种。本发明提供的晶圆切割保护膜具有初粘力高、剥离力高、耐水性好,在晶圆切割保护中易贴合;长时间在高温高湿环境下,易剥离,无残胶,耐高温性好,耐湿热老化性能优异。

主权项:1.一种晶圆切割保护膜,其特征在于,所述晶圆切割保护膜包括依次设置的软质基材层、胶黏剂层和离型膜层;所述胶黏剂层的制备原料按重量份数计,包括以下的组分:软单体30份~60份、硬单体1份~30份、功能单体5份~20份、含硅单体0.5份~2份、引发剂0.1份~0.6份、交联剂0.1份~2份和溶剂20份~50份;所述软质基材层的材料选自经电晕处理的PO膜、经电晕处理的PVC膜和经电晕处理的PE膜中的一种或多种。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州赛伍应用技术股份有限公司 一种晶圆切割保护膜及其制备方法和应用

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。