申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-11-27

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117845325A

主分类号：C30B25/12

分类号：C30B25/12;C30B25/08;C30B25/16;C23C16/458;C23C16/52

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明提供了一种MOCVD用托盘、反应腔、晶圆生长压力调节方法。本发明的MOCVD用托盘，包括：托盘本体，托盘本体上下表面均呈流线型；由于托盘本体上下表面均呈流线型设计，托盘本体的转动过程中，可以通过托盘本体旋转速度的快慢改变托盘本体表面的气流流速，托盘本体上下表面均呈流线型设计，且上表面曲率半径小于下表面的曲率半径，在转动过程中，按照伯努利原理，托盘本体上表面流速高于下表面，则相应的托盘本体上表面的压力低于下表面的压力，这样在托盘本体上表面产生压力差，且托盘本体的转速越快，则托盘本体上表面对应凹槽处上方的气流压力越小，从而实现通过托盘本体的转速的调节，进而实现调节晶圆生长压力的目的。

主权项：1.一种MOCVD用托盘，其特征在于，包括：托盘本体，可绕其中心轴线转动设置，所述托盘本体上设有凹槽和导气孔，所述凹槽用以承载沉积样品，所述导气孔用以将所述托盘本体上表面的气流导入所述托盘本体下表面；所述托盘本体上下表面均呈流线型，所述托盘本体上表面的曲率半径小于所述托盘本体下表面的曲率半径以使气体流经旋转的托盘本体时，托盘本体上下表面产生压力差。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种MOCVD用托盘、反应腔、晶圆生长压力调节方法

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