申请/专利权人：江苏东恒光电有限公司

申请日：2023-12-15

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117844244A

主分类号：C08L79/08

分类号：C08L79/08;C08J5/18;C08G73/12;H01B7/28;C08K9/04;C08K9/06;C08K3/36

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明公开了一种耐磨高性能聚酰亚胺薄膜及其在绕包扁铜线中的应用，涉及高分子材料技术领域。本发明在制备耐磨高性能聚酰亚胺薄膜时，将二氯化烯丙基磷和乙二胺反应制得双胺低聚物，将4‑氨基2,6‑二‑叔丁基苯酚和异硫氰酸烯丙酯反应制得烯丙基受阻酚，将纳米二氧化硅与γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷反应后再与烯丙基受阻酚、1‑烯丙基1,1,3,3‑四甲基二硅氧烷反应制得改性纳米二氧化硅，将对苯二胺、双胺低聚物与2,2‑双3,4‑二羧酸六氟丙烷二酐反应制得聚酰胺酸溶液，将聚酰胺酸溶液与改性纳米二氧化硅混合后再亚酰胺化制得耐磨高性能聚酰亚胺薄膜。本发明制备的耐磨高性能聚酰亚胺薄膜具有优良的耐磨、抗老化、阻燃和拉伸强度。

主权项：1.一种耐磨高性能聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述耐磨高性能聚酰亚胺薄膜是将预改性纳米二氧化硅与烯丙基受阻酚、1-烯丙基1,1,3,3-四甲基二硅氧烷反应制得改性纳米二氧化硅，将对苯二胺、双胺低聚物与2,2-双3,4-二羧酸六氟丙烷二酐反应制得聚酰胺酸溶液，将聚酰胺酸溶液与改性纳米二氧化硅混合后亚酰胺化制得。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏东恒光电有限公司 一种耐磨高性能聚酰亚胺薄膜及其在绕包扁铜线中的应用

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