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【发明公布】从大块样品中制备感兴趣体积的方法及计算机程序产品_卡尔蔡司显微镜有限责任公司_202311291641.2 

申请/专利权人:卡尔蔡司显微镜有限责任公司

申请日:2023-10-07

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117849084A

主分类号:G01N23/2251

分类号:G01N23/2251;G01N23/2202;B23K26/364

优先权:["20221006 US 63/413,816"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明包括一种用于从大块样品中制备感兴趣体积VOI的方法,该方法包括以下步骤:提供包括VOI的大块样品;将大块样品布置在第一取向上;记录大块样品的图像,同时大块样品被布置在第一取向上;基于第一图像来定义第一修整区域;通过用粒子束机加工大块样品来去除第一体积,使得创建了在VOI附近的截面;将大块样品布置在第二取向上;记录大块样品的第二图像,同时大块样品被布置在第二取向上;基于大块样品的第二图像来定义第二修整区域;通过用粒子束机加工大块样品来去除第二体积;定义第三修整区域;通过用粒子束机加工大块样品来去除第三体积。本发明还包括一种计算机程序产品。

主权项:1.一种用于从大块样品10,20,60中制备感兴趣体积VOI1,21,61的方法,该方法借助于粒子束系统30,36,70来执行,其中,该粒子束系统被配置为容纳该大块样品并对其成像;并且被配置为用于提供粒子束22,33,39,用于去除该大块样品的材料;其中,该粒子束系统包括粒子束源72,81,91和光轴,该粒子束可以沿着该光轴传播;并且其中,该粒子束系统被配置为将该大块样品布置在相对于该光轴的第一取向和相对于该光轴的第二取向上,其中该第一取向和该第二取向彼此不同;并且其中,该粒子束系统被配置为定义修整区域,修整区域确定了要从该大块样品中去除的体积的位置和大小;其中,该方法包括以下步骤:-提供包括该VOI的大块样品S1;-将该大块样品布置在相对于该粒子束系统的光轴的该第一取向上S2;-记录该大块样品的图像,同时该大块样品被布置在该第一取向上S3;-基于该第一图像来定义第一修整区域,其中该第一修整区域确定了要去除的第一体积的位置和大小S4;-通过用该粒子束机加工该大块样品来去除该第一体积,使得创建在该VOI附近的截面S5;-将该大块样品布置在相对于该粒子束系统的光轴的该第二取向上S6;-记录该大块样品的第二图像,同时该大块样品被布置在该第二取向上S7;-基于该大块样品的第二图像来定义第二修整区域,其中该第二修整区域确定了要去除的第二体积的位置和大小S8;-通过用该粒子束机加工该大块样品来去除该第二体积S9;-定义第三修整区域,其中该第三修整区域定义了要去除的第三体积的位置和大小;-通过用该粒子束机加工该大块样品来去除该第三体积。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 从大块样品中制备感兴趣体积的方法及计算机程序产品

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