申请/专利权人：季华实验室

申请日：2024-03-07

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117840442A

主分类号：B22F9/08

分类号：B22F9/08;B33Y70/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本申请提供了一种预成膜旋流扩散气雾化设备，涉及增材制造技术领域。通过设置上导流部，能够使导流嘴流出的金属熔体形成金属熔体液膜，有利于提高导流嘴流出金属熔体流量的稳定性，以及提高金属熔体预成膜过程的稳定性，超音速雾化气流控制的回流区的气流由下导流部引导流向上导流部的边缘位置以冲击金属熔体液膜，增强了金属熔体液膜的扰动，有效提高雾化效果，由旋流喷盘喷出的旋流使超音速雾化气流交汇区下方的气液混合射流进行径向扩散，以降低气液混合射流在单位空间内雾化形成熔滴或粉末的数量密度，降低不同尺寸熔滴和粉末之间碰撞、融合以及黏连的机率，从而降低卫星粉比率，有利于提升预成膜旋流扩散气雾化设备的雾化效率。

主权项：1.一种预成膜旋流扩散气雾化设备，其特征在于，包括：熔炼室（100）、雾化室（110）、导流嘴（120）、雾化喷盘（130）、导流体（140）和旋流喷盘（150）；所述熔炼室（100）包括熔炼坩埚（101）和中间包（102），所述熔炼坩埚（101）用于将金属母料熔炼成金属熔体，所述中间包（102）用于盛接所述金属熔体；所述雾化室（110）设置在所述熔炼室（100）的下方，所述导流嘴（120）设置在所述中间包（102）的下方且伸入所述雾化室（110），所述导流体（140）同轴设置在所述导流嘴（120）的出口处，所述导流体（140）为回转体，所述导流体（140）包括上导流部（141）和下导流部（142），所述上导流部（141）的母线为第一倾斜线，所述第一倾斜线从上至下逐渐远离所述导流嘴（120）的中心轴线，所述下导流部（142）的母线为第二倾斜线，所述第二倾斜线从上至下逐渐靠近所述导流嘴（120）的中心轴线，所述导流嘴（120）流出的所述金属熔体沿所述上导流部（141）的周面流动形成金属熔体液膜，所述雾化喷盘（130）同轴设置在所述导流嘴（120）的下段，且所述雾化喷盘（130）的喷射方向朝向所述上导流部（141）的边缘位置，所述雾化喷盘（130）用于喷出超音速雾化气流以雾化所述上导流部（141）的边缘位置流出的所述金属熔体液膜，所述下导流部（142）用于引导由超音速雾化气流控制的回流区的气流流向所述上导流部（141）的边缘位置以冲击所述金属熔体液膜；所述旋流喷盘（150）同轴设置在所述导流体（140）的下方且位于所述超音速雾化气流的交汇处的正下方，所述旋流喷盘（150）用于向上喷出旋流以使所述超音速雾化气流的交汇处的下方的气液混合射流进行径向扩散，所述超音速雾化气流的交汇处是指所述雾化喷盘（130）的喷射方向矢量与所述雾化喷盘（130）的中心轴线的交点。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 季华实验室 一种预成膜旋流扩散气雾化设备

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