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【发明授权】光电探测器及其制作方法_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202111247579.8 

申请/专利权人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

申请日:2021-10-26

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN114005895B

主分类号:H01L31/028

分类号:H01L31/028;H01L31/0304;H01L31/109;H01L31/18

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2022.02.22#实质审查的生效;2022.02.01#公开

摘要:提供了一种光电探测器及其制作方法,所述光电探测器包括由MXene材料层和AlGaN材料层形成的MXeneAlGaN范德瓦尔斯异质结。与传统的异质结相比,MXene材料具有较高的透光率、金属导电性以及可调的功函数,所形成的范德瓦尔斯异质结不受晶格匹配的限制,缺陷极少,能够极大地提升界面质量,因此,基于所述MXeneAlGaN范德瓦尔斯异质结形成的光电探测器,不仅有利于提高光电探测器的光吸收效率和光生电流的传输效率,提高光响应度,还能有效地降低光电探测器的制造成本,为光电探测器的规模化应用提供新的契机。此外,所述光电探测器的制作方法缩减了工艺步骤,制作方法简单。

主权项:1.一种光电探测器,其特征在于,所述光电探测器包括由MXene材料层和AlGaN材料层形成的MXeneAlGaN范德瓦尔斯异质结。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 光电探测器及其制作方法

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