申请/专利权人：武汉大学

申请日：2020-08-07

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN111899316B

主分类号：G06T11/20

分类号：G06T11/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2023.03.24#专利申请权的转移;2020.11.24#实质审查的生效;2020.11.06#公开

摘要：本发明涉及地质结构研究技术领域。本发明的一种地层结构的二维地层网格数字化编辑方法包括：将用户绘制的初始轮廓作为二维地层网格的整体边界；将用户在一个最小封闭区域内绘制的、并且两个端点均位于所述最小封闭区域边界上的一部分辅助地层线作为一条新的辅助地层线的新增部分；记录各节点的使用次数；对各辅助地层线按照一定顺序进行编号。本发明的一种地层结构的二维地层网格数字化编辑装置包括：整体边界绘制模块、新增辅助地层线绘制模块、节点记录模块和辅助地层线记录模块。由于地层层状结构会导致辅助地层线依次排列，形成先后关系，因此，对二维地层网格进行检索和编辑都很方便，且存储结构简单。

主权项：1.一种地层结构的二维地层网格数字化编辑方法，其特征在于，包括：整体边界绘制:将用户绘制的初始轮廓作为二维地层网格的整体边界，所述初始轮廓为若干条线段依次首尾连接所形成的封闭曲线，所述线段的端点称为节点，所述初始轮廓分为作为上边界的辅助地层线和作为下边界的辅助地层线两部分，所述上边界和下边界的两个公共节点分别称为首节点和尾节点；新增辅助地层线绘制：将用户在一个最小封闭区域内绘制的、并且两个端点均位于所述最小封闭区域边界上的一部分辅助地层线作为一条新的辅助地层线的新增部分，所述最小封闭区域指至少由相邻的两条辅助地层线所围成的封闭区域，所述新的辅助地层线所包含的节点为：从初始轮廓的首节点开始、沿所述最小封闭区域外的已绘制节点、途径上述最小封闭区域内的新增节点、再沿所述最小封闭区域外的已绘制节点直至初始轮廓的尾节点结束，所经过的最短路径所包含的所有节点；节点记录：记录各节点的使用次数，所述节点的使用次数指经过该节点的辅助地层线的数量；辅助地层线记录：对各辅助地层线按照预定顺序进行编号。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉大学 一种地层结构的二维地层网格数字化编辑方法及装置

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