申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2017-07-13

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN112786429B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20160714 JP 2016-139681"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.05.28#实质审查的生效;2021.05.11#公开

摘要：本发明提供一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。等离子体处理系统具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

主权项：1.一种等离子体处理系统，具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于在不将所述工艺模块向大气开放的情况下从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置，使得当所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部通过所述位置检测传感器时，所述位置检测传感器的传感器输出发生变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统

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