申请/专利权人：中节能万润股份有限公司

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117447885B

主分类号：C09D133/14

分类号：C09D133/14;G03F7/20;C09D7/65;C08F220/28;C08F220/38;C08F220/24

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开

摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用，所述光刻胶顶层涂层聚合物包括如下聚合物1和聚合物2：聚合物1；聚合物2；a、b、c、x、y、z分别是基于聚合物中重复单元的质量分数，a选自18‑60%，b选自1‑20%，c选自30‑80%；x选自1‑15%，y选自5‑30%，z选自60~90%；聚合物1和聚合物2的分子量选自1000‑40000Da，聚合物1和聚合物2的分子量分散系数选自1.0‑4.0。本发明所述聚合物能够有效减少浸没式曝光时光致产酸剂对光学镜头的污染，且配制的光刻胶顶层涂层具有较高的接触角。

主权项：1.一种光刻胶顶层涂层聚合物，其特征在于，所述光刻胶顶层涂层聚合物包括如下聚合物1和聚合物2： 聚合物1； 聚合物2；a、b、c、x、y、z分别是基于聚合物中重复单元的质量分数；a选自35-45%，b选自5-15%，c选自45-55%；x选自5-15%，y选自10-20%，z选自75-85%；所述聚合物1的分子量选自1000-30000Da，聚合物1的分子量分散系数选自1.3-2.5；所述聚合物2的分子量选自1000-25000Da，聚合物2的分子量分散系数选自1.0-2.0。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中节能万润股份有限公司 一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用

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