申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-06-13

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN112335020B

主分类号：H01L21/027

分类号：H01L21/027;H01L21/683

优先权：["20180622 JP 2018-118862"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.04.09#实质审查的生效;2021.02.05#公开

摘要：涂布显影装置具备：热板，其构成为能够载置作为处理对象的晶圆；升降机构，其构成为能够使支承晶圆的支承销进行升降，以使晶圆被载置于热板；吸引部，其对晶圆的背面的多个区域施加吸引力，以使晶圆吸被附于热板；以及控制器，其基于吸引部的第一配管相应于晶圆向热板的靠近而各自产生的压力变化，来估计晶圆的翘曲信息。

主权项：1.一种基板处理装置，具备：载置部，其构成为能够载置作为处理对象的基板；升降部，其构成为能够使所述基板和所述载置部中的至少任一方升降，以使得所述基板被载置于所述载置部；多个吸引部，所述多个吸引部对所述基板的背面的多个区域施加吸引力，以使得所述基板被吸附于所述载置部；以及控制部，其基于所述多个吸引部相应于所述基板向所述载置部的靠近而各自产生的压力变化，来估计所述基板的翘曲信息，其中，所述升降部使所述基板进行升降，以使所述基板靠近所述载置部，所述控制部判定所述吸引部的压力变化量是否为规定值以上，在该压力变化量为规定值以上的情况下，从所述升降部获取所述基板的高度信息，并基于该高度信息来估计所述基板的翘曲量，其中，所述控制部进行以下控制：第一控制，控制所述多个吸引部，以使所述多个吸引部的各吸引部在互不相同的定时进行吸引力的施加；以及第二控制，在所述第一控制之前，按由所述多个吸引部中的不会引起吸引力的相互干扰的两个以上的吸引部构成的每个组，来控制所述多个吸引部。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质

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