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【发明公布】高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法_苏州深浅优视智能科技有限公司_202211189450.0 

申请/专利权人:苏州深浅优视智能科技有限公司

申请日:2022-09-28

公开(公告)日:2024-04-05

公开(公告)号:CN117824535A

主分类号:G01B11/25

分类号:G01B11/25

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要:本发明涉及高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法,依次包括以下步骤:步骤S1、通过解格雷码条纹获取级次K1和错半个周期级次K2;步骤S2、通过线移条纹L、级次K1、最小周期的格雷码图案G融合获得截断线位图W;步骤S3、通过K1,K2,W获取展开线位图P。本发明可以解决传统中相移结构光在高反光物体表面投影条纹会出现采集到的条纹信息出现缺失的问题;本发明可以解决传统线移结构光编码方式分布不均匀导致采集到的投影条纹受周围条纹影响出现消失或像素值与预期值偏差过大的问题;本发明可以解决现有的线移结构光编解码方法投射条纹图过多的问题。

主权项:1.高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法,其特征在于,依次包括以下步骤:步骤S1、通过解格雷码条纹获取级次K1和错半个周期级次K2;步骤S2、通过线移条纹L、级次K1、最小周期的格雷码图案G融合获得截断线位图W;步骤S3、通过K1,K2,W获取展开线位图P。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州深浅优视智能科技有限公司 高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法

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