申请/专利权人：PSK有限公司

申请日：2021-12-02

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117882179A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01J37/32;H01L21/687

优先权：["20210831 KR 10-2021-0115656"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.12#公开

摘要：本发明提供基板处理设备。在一实施例中，基板处理设备可以包括：壳体，所述壳体通过上部壳体和下部壳体组合来限定处理空间；气体供应单元，所述气体供应单元向处理空间供应气体；支撑单元，所述支撑单元具有在处理空间支撑基板的卡盘和从上部观察时以包围卡盘的方式提供的下部电极；介电板单元，所述介电板单元具有与在处理空间被支撑单元支撑的基板相向配置的介电板；上部电极单元，所述上部电极单元结合于介电板单元，具有与下部电极相向配置的上部电极；所述上部电极单元可以结合于下部壳体。

主权项：1.一种基板处理设备，所述基板处理设备处理基板，其中，包括：壳体，所述壳体通过上部壳体和下部壳体组合来限定处理空间；气体供应单元，所述气体供应单元向所述处理空间供应气体；支撑单元，所述支撑单元具有在所述处理空间支撑基板的卡盘和从上部观察时以包围所述卡盘的方式提供的下部电极；介电板单元，所述介电板单元具有与在所述处理空间被所述支撑单元支撑的基板相向配置的介电板；以及上部电极单元，所述上部电极单元结合于所述介电板单元，具有与所述下部电极相向配置的上部电极；所述上部电极单元结合于所述下部壳体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： PSK有限公司 基板处理设备及介电板对准方法

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