申请/专利权人：南昌大学

申请日：2024-02-28

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117861557A

主分类号：B01J3/04

分类号：B01J3/04;B01J3/00;B01J19/24;B01J19/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及均质设备技术领域，尤其涉及一种高压射流反应腔及高压射流设备，包括壳体及开设于壳体内的N个顺次连通的腔室，N个腔室构成均质腔体，且壳体位于均质腔体的两侧分别开通有进口通道和出口通道；壳体位于腔室内设置有碰撞组件，壳体位于腔室的内周侧壁上还设置有突起部，均质腔体位于碰撞组件于突起部之间形成有待均质物料发生碰撞移动的均质通道。将待细化物料从壳体的进口通道处注入到均质腔体内，通过N个腔室内设置的碰撞组件的碰撞部与突起部的配合，使得物料与碰撞部进行高频次碰撞，提升物料的细化效果，缩短物料在腔室内所需的均质化时间。

主权项：1.一种高压射流反应腔，其特征在于，包括壳体及开设于所述壳体内的N个顺次连通的腔室，所述N为大于或等于2的自然数，N个所述腔室构成均质腔体，且所述壳体位于所述均质腔体的两侧分别开通有进口通道和出口通道；所述壳体位于所述腔室内设置有碰撞组件，所述壳体位于所述腔室的内周侧壁上还设置有突起部，所述均质腔体位于所述碰撞组件与所述突起部之间形成有待均质物料发生碰撞移动的均质通道。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南昌大学 一种高压射流反应腔及高压射流设备

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