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【发明公布】一种星载高温度均匀性面源黑体辐射源_中国科学院上海技术物理研究所_202311683327.9 

申请/专利权人:中国科学院上海技术物理研究所

申请日:2023-12-09

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117870877A

主分类号:G01J5/53

分类号:G01J5/53

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明公开了一种星载高温度均匀性面源黑体辐射源,包括黑体、均温结构、加热膜、热管和温度传感器,黑体正面的圆形有效区域为V型槽结构,温度传感器安装于黑体背面的凹槽内;均温结构正面与黑体背面导热安装并用螺钉固定,均温结构由紫铜板、高导热石墨片和低导热聚酰亚胺片按设计组合而成,各层之间采用胶粘;热管一端通过螺钉安装在均温结构背面,热管另一端安装在辐射散热板或其他冷源上;加热膜贴在均温结构背面。本发明能够解决现有的星载黑体存在的温度均匀性差的问题,从而提高星上红外标定的准确性。

主权项:1.一种星载高温度均匀性面源黑体辐射源,其特征在于:包括黑体1、均温结构2、加热膜3、热管4和温度传感器5,所述黑体1正面的圆形有效区域为V型槽结构,所述温度传感器5安装于黑体1背面的凹槽内;所述均温结构2正面与黑体1背面导热安装并用螺钉固定,所述均温结构2由紫铜板2-1、高导热石墨片2-2和低导热聚酰亚胺片2-3按设计组合而成,各层之间采用胶粘;所述热管4一端通过螺钉安装在均温结构2背面,所述热管4另一端安装在辐射散热板或其他冷源上;所述加热膜3贴在均温结构2背面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海技术物理研究所 一种星载高温度均匀性面源黑体辐射源

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