申请/专利权人:复旦大学
申请日:2024-01-24
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117865157A
主分类号:C01B32/90
分类号:C01B32/90
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本发明涉及一种MXene量子点及其高产率制备方法与应用,制备方法包括以下步骤:S1:利用刻蚀剂和插层剂对MAX相物质进行处理制备MXene纳米片;S2:利用氧化剂和酸性刻蚀剂对MXene纳米片处理制备多孔介孔MXene纳米片;S3:在保护气氛下对多孔介孔MXene纳米片进行破碎处理,从而制备得到MXene量子点。与现有技术相比,本发明制备方法可解决目前制备MXene量子点所存在的产率低以及难以分离的问题,所制备的MXene可应用在生物医学、电催化、超级电容器及电池等领域。
主权项:1.一种MXene量子点的高产率制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:利用刻蚀剂和插层剂对MAX相物质进行处理制备MXene纳米片;S2:利用氧化剂和酸性刻蚀剂对MXene纳米片处理制备多孔MXene纳米片;S3:在保护气氛下对多孔MXene纳米片进行破碎处理制备MXene量子点。
全文数据:
权利要求:
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