申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2023-10-11

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117865865A

主分类号：C07C381/12

分类号：C07C381/12;C07C311/21;C07C311/08;C07C311/09;C07C311/14;C07C233/81;C07C233/63;C07C25/18;C07C211/63;C07D333/54;C07D333/76;C07D327/08;G03F7/004;G03F7/038

优先权：["20221012 JP 2022-164317"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物及其所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式1表示者。式中，n1为0或1的整数。n2为0～3的整数。R1a为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。n3为0～3的整数。R1b为也可含有杂原子的碳数1～36的烃基。XA为和相邻的‑NH一起形成酰胺键的对应的羰基、或和相邻的‑NH一起形成磺酰胺键的对应的磺酰基中的任一者。n4为1或2的整数。Z+表示鎓阳离子。

主权项：1.一种鎓盐，其特征为：是下述通式1表示者； 式中，n1为0或1的整数；n2为0～3的整数；R1a为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n3为0～3的整数；R1b为也可含有杂原子的碳数1～36的烃基；XA为和相邻的-NH一起形成酰胺键的对应的羰基、或和相邻的-NH一起形成磺酰胺键的对应的磺酰基中的任一者；n4为1或2的整数；Z+表示鎓阳离子。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法

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