申请/专利权人：楚赟科技(绍兴)有限公司

申请日：2024-01-24

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117867473A

主分类号：C23C16/455

分类号：C23C16/455;C23C16/50;C23C16/458;C23C14/22;C23C14/50;C23C14/56;C23C16/44;H01L21/67

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明提供了一种气相沉积设备，包括反应腔；第一气体注入机构位于反应腔顶部的中间区域；第二气体注入机构位于反应腔顶部的外围区域并环绕第一气体注入机构设置；遮挡件环绕反应腔的内侧壁设置，遮挡件与反应腔的内侧壁、第二气体注入机构之间适配地围设成一个环形腔，第二气体注入机构向环形腔中注入吹扫气体；遮挡件与第一气体注入机构适配地围设成一个径向尺寸由上至下逐渐增大空间区域，遮挡件的最下端的外径与反应腔的内径相适配，吹扫通道分布设于遮挡件上以向空间区域导入吹扫气体。本发明提供的气相沉积设备可以提高设备生长材料的产出效率和质量，延长反应腔的维护周期。

主权项：1.一种气相沉积设备，其特征在于，包括：反应腔；第一气体注入机构位于所述反应腔顶部的中间区域，用于向所述反应腔内注入反应气体；第二气体注入机构位于所述反应腔顶部的外围区域并环绕所述第一气体注入机构设置；承载盘，位于所述反应腔中，与所述第一气体注入机构相对设置，在所述承载盘上方形成有一反应区；旋转轴，与所述承载盘连接，带动所述承载盘在气相沉积期间旋转；遮挡件，位于所述反应腔中，环绕所述反应腔的内侧壁设置，在进行气相沉积期间，所述遮挡件与所述反应腔的内侧壁、所述第二气体注入机构之间适配地围设成一个环形腔，所述第二气体注入机构向所述环形腔中注入吹扫气体；所述遮挡件与所述第一气体注入机构适配地围设成一个空间区域，所述空间区域的径向尺寸由上至下逐渐增大，所述遮挡件的最下端的外径与所述反应腔的内径相适配；吹扫通道，分布设于所述遮挡件上，所述吹扫通道贯穿所述遮挡件，所述吹扫通道将所述环形腔和所述空间区域导通，以向所述空间区域导入吹扫气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 楚赟科技(绍兴)有限公司 一种气相沉积设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD