申请/专利权人：三井金属矿业株式会社

申请日：2022-12-14

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117881942A

主分类号：G01B21/30

分类号：G01B21/30;G01B11/30

优先权：["20211222 JP PCT/JP2021/047646"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：提供一种能够简便地获得表示与高频特性高度相关的铜箔的表面参数的测定方法。该方法包括以下工序：工序a，获得作为参比的表面处理铜箔的表面轮廓的工序；工序b，设定L滤波器的截止值的工序，其中，截止值以如下方式设定：i使用L滤波器处理后的算术平均高度Sa满足0.5μm以下，并且ii使用L滤波器处理前后的界面扩展面积比Sdr的变化率或α值的变化率满足80％以下；工序c，获得作为测定对象的表面处理铜箔的表面轮廓的工序；工序d，针对测定对象铜箔，对获得的表面轮廓进行滤波处理的工序；和工序e，基于滤波处理后的表面轮廓，计算测定对象铜箔的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。

主权项：1.一种铜箔的表面参数的测定方法，其包括以下工序：工序a，为了设定滤波器条件而获得作为参比的表面处理铜箔的处理表面的表面轮廓的工序；工序b，基于所述表面轮廓设定L滤波器的截止值的工序，其中，所述截止值以如下方式设定：i作为使用L滤波器处理后的算术平均高度Sa的Sa1满足0.5μm以下，并且ii使用L滤波器处理前后的界面扩展面积比Sdr的变化率：|Sdr0-Sdr1|Sdr0×100满足80％以下，式中，Sdr0是使用L滤波器处理前的Sdr，Sdr1是使用L滤波器处理后的Sdr，或者ii’使用L滤波器处理前后的、将中心部的实体体积Vmc除以中心部的水平差Sk并乘以界面扩展面积比Sdr而得到的、即通过VmcSk×Sdr的式子得到的α值的变化率|α0-α1|α0×100满足80％以下，式中，α0为使用L滤波器处理前的α值，α1为使用L滤波器处理后的α值，Sa、Sdr、Vmc和Sk为ISO25178所规定的表面参数；工序c，获得作为测定对象的表面处理铜箔的处理表面的表面轮廓的工序，所述作为测定对象的表面处理铜箔是利用与所述作为参比的表面处理铜箔同等的条件进行制造或处理而得到的；工序d，针对所述作为测定对象的表面处理铜箔，对获得的表面轮廓进行滤波处理的工序，其中，包括使用所述截止值的L滤波器进行处理的步骤；和工序e，基于所述滤波处理后的表面轮廓，计算所述作为测定对象的表面处理铜箔的处理表面的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三井金属矿业株式会社 铜箔的表面参数的测定方法以及铜箔的筛选方法

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