申请/专利权人：安集微电子(上海)有限公司

申请日：2019-12-31

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113122146B

主分类号：C09G1/02

分类号：C09G1/02;H01L21/768

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.12.06#实质审查的生效;2021.07.16#公开

摘要：本发明公开了一种化学机械抛光液，包括：复合研磨颗粒、氧化剂和水，其中，所述复合研磨颗粒为选自二氧化铈、二氧化钛、二氧化锰和三氧化二铝中的两种或多种金属氧化物相互包覆的复合氧化物颗粒。本发明中的化学机械抛光液具有较高的含碳材料的去除速率，可用于含碳材料的化学机械抛光。

主权项：1.一种化学机械抛光液，包括：复合研磨颗粒、氧化剂和水，其特征在于，所述复合研磨颗粒选自表面包覆三氧化二铝的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化锰的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化钛的二氧化铈颗粒，表面包覆三氧化二铝的二氧化铈颗粒，表面包覆二氧化锰和三氧化二铝的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化钛的二氧化锰颗粒，表面包覆二氧化钛的三氧化二铝颗粒中的一种或多种；所述复合研磨颗粒的质量百分比浓度为0.1～10％；所述氧化剂选自氯酸盐、高氯酸盐、碘酸盐、高碘酸盐、高锰酸盐、双氧水、单过硫酸盐、过硫酸盐中的一种或多种；所述氧化剂的质量百分比浓度为0.01～1％；所述化学机械抛光液的pH值为2～6。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安集微电子(上海)有限公司 一种化学机械抛光液及其使用方法

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