申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2022-02-21

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN114544498B

主分类号：G01N21/01

分类号：G01N21/01;G01N21/3563;G01N21/84

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.06.14#实质审查的生效;2022.05.27#公开

摘要：一种光刻样品及微纳结构跟踪装置及方法，包括系统光路的搭建，数据标定，实验测试等步骤。针对象散法容易受到噪声影响的问题，提供了一种差分象散法实现高速高精度的跟踪；针对功率探测器件容易受微纳结构表面反射率的影响，提供了一种光斑直径法实现微纳结构表面的高精度跟踪。对于刻写光刻样品时，要求高数值孔径物镜、高速度与精度跟踪，以差分象散法为主跟踪，并借助光斑直径法为限位，确保跟踪精度与稳定性；对于微纳结构跟踪时微纳结构表面反射率不均匀，因此以光斑直径法为主跟踪，并根据差分象散法快速获取准焦位置，提高跟踪速度与精度。本发明实现了光刻样品与微纳结构高速高精度高可靠性的跟踪，具有很好的应用价值。

主权项：1.一种光刻样品及微纳结构跟踪装置，其特征在于，包括红光模块1、二向色光分光平片2、调焦机构3、压电陶瓷4、显微物镜5、样品6、工件台7、分光棱镜8、透镜9、CCD10、柱面镜CLx11、柱面镜Cly12、探测器13、控制器14、成像模块15、计算机16；所述红光模块1发出光经过二向色光分光平片2反射后，入射到显微物镜5，经显微物镜5汇聚后，照射在样品6上，然后经样品6反射后，沿原路返回至红光模块1，经该红光模块1反射后，经分光棱镜8等比例分成反射光和透射光，所述的反射光经过透镜9汇聚到CCD10，所述的透射光依次经过柱面镜CLx11、柱面镜Cly12汇聚到探测器13；所述CCD10以及探测器13的输出端与所述控制器14的输入端相连，且该控制器14与所述计算机16进行通讯；所述成像模块15发出一束平行白光依次经过所述二向色光分光平片2后入射到显微物镜5、最后聚焦到样品6上，经过该样品的反射，沿原入射光路返回至成像模块15，该成像模块15与所述计算机16相连，并与计算机通讯，通过所述计算机16成像；所述压电陶瓷4固定在所述调焦机构3上，并且通过调整所述调焦机构3上下运动；所述压电陶瓷4的输入端与所述控制器14的输出端相连，并且通过计算机16发送指令控制压电陶瓷运动；所述显微物镜5固定在所述压电陶瓷4上，并且与压电陶瓷同步运动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种光刻样品及微纳结构跟踪装置及方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD