申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2020-04-07

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN111856878B

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/09;G03F1/76

优先权：["20190430 US 16/398753","20190802 US 16/530273"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2020.11.17#实质审查的生效;2020.10.30#公开

摘要：抗蚀剂底层组合物，其包含聚亚芳基醚、不同于所述聚亚芳基醚的添加剂聚合物和溶剂，其中所述添加剂聚合物包括具有选自羟基、巯基和或氨基的至少一个受保护或游离官能团的芳族或杂芳族基团。

主权项：1.一种抗蚀剂底层组合物，其包含：聚亚芳基醚，其中所述聚亚芳基醚包括具有两个或更多个环戊二烯酮部分的一种或多种第一单体和具有芳族部分和两个或更多个炔基部分的一种或多种第二单体的聚合单元，0.1-30重量％与所述聚亚芳基醚不同的添加剂聚合物，以所述组合物中的固体总重量计，以及溶剂，其中所述添加剂聚合物包含芳族或杂芳族基团，其中所述添加剂聚合物的所述芳族基团包含至少一个选自羟基、巯基和氨基的受保护或游离官能团。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 抗蚀剂底层组合物和用该组合物形成图案的方法

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