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【实用新型】湿式表面清洁设备_北京顺造科技有限公司_202322367042.6 

申请/专利权人:北京顺造科技有限公司

申请日:2023-08-31

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN220757343U

主分类号:A47L11/40

分类号:A47L11/40;A47L11/282

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权

摘要:本公开提供一种湿式表面清洁设备,其包括:主体部,清洁头,以及清洁液存储部,所述清洁液存储部设置于所述主体部,用于向所述清洁头供应清洁液体;其中,所述清洁头包括:第一搅拌件,所述第一搅拌件被设置为能够绕第一轴转动;第一流体分配器,所述第一流体分配器被设置为能够向第一搅拌件提供清洁液体;以及侧面清洁组件,所述侧面清洁组件用于对清洁头的侧下方的待清洁表面进行清洁,其中,所述侧面清洁组件包括:第二搅拌件,所述第二搅拌件被设置为能够绕第二轴转动,而且,所述第二搅拌件的外缘的至少一部分突出于所述清洁头的壳体的侧壁,且清洁液体通过第二流体分配器被提供至所述第二搅拌件。

主权项:1.一种湿式表面清洁设备,其特征在于,包括:主体部,清洁头,所述清洁头被配置为可枢转地与所述主体部连接,并且能够在待清洁表面上移动;以及清洁液存储部,所述清洁液存储部设置于所述主体部,用于向所述清洁头供应清洁液体;其中,所述清洁头包括:第一搅拌件,所述第一搅拌件被设置为能够绕第一轴转动;第一流体分配器,所述第一流体分配器被设置为能够向第一搅拌件提供清洁液体;以及侧面清洁组件,所述侧面清洁组件用于对清洁头的侧下方的待清洁表面进行清洁,其中,所述侧面清洁组件包括:第二搅拌件,所述第二搅拌件被设置为能够绕第二轴转动,而且,所述第二搅拌件的外缘的至少一部分突出于所述清洁头的壳体的侧壁,且清洁液体通过第二流体分配器被提供至所述第二搅拌件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京顺造科技有限公司 湿式表面清洁设备

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