申请/专利权人：大立光电股份有限公司

申请日：2023-09-05

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117917592A

主分类号：G02B5/04

分类号：G02B5/04;G02B5/00;G02B1/11;G02B13/00

优先权：["20221020 US 63/418,002"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：本揭示公开一种光路转折元件，包含主体、光线吸收膜层以及消光结构。主体具有光学表面，其包含入射面、反射面以及出射面。光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线，以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置，且光线吸收膜层与主体实体接触。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且消光结构与主体一体成型。本揭示还公开具有上述光路转折元件的成像镜头模块及具有光路转折元件的电子装置。

主权项：1.一种光路转折元件，其特征在于，包含：一主体，具有一光学表面，且所述光学表面包含：一入射面，一光线由所述入射面进入所述光路转折元件；一反射面，用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变；以及一出射面，所述光线由所述出射面离开所述光路转折元件；一光线吸收膜层，用于降低反射率，所述光线吸收膜层与至少部分的所述光学表面相邻设置，且所述光线吸收膜层与所述光路转折元件的所述主体实体接触；以及一消光结构，与至少部分的所述光学表面相邻设置；其中，所述消光结构使所述光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏，且所述消光结构与所述光路转折元件的所述主体一体成型。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大立光电股份有限公司 光路转折元件、成像镜头模块及电子装置

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