申请/专利权人：浙江大学

申请日：2024-02-20

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117733663B

主分类号：B24B1/00

分类号：B24B1/00;B24B49/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法，属于超精密加工领域，包括以下步骤：选择具有光催化活性的纳米颗粒作为光催化介质，采用光还原法实现金属纳米颗粒在光催化介质表面的析出，制备光电催化团簇；将其与去离子水混合制备抛光液；利用催化光源照射至工件待加工面、光电催化团簇和柔性工具的耦合区域，同时为工件的导电托盘施加偏压；对柔性工具头施加法向负载并设置转速，产生流体动压力驱动抛光液流动，实现原子级精度的可控去除。本发明通过光电催化团簇中的金属颗粒捕获光生电子，提高光生载流子寿命，通过空间电场抑制电子空穴对复合，形成大量新的反应活性位点，提高限域内光催化反应速率，避免工件表面划伤。

主权项：1.一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法，其特征在于：其包括以下步骤：S1.选择具有光催化活性的纳米颗粒作为光催化介质，采用光还原法实现金属纳米颗粒在光催化介质表面的析出，制备出光电催化团簇；S2.将光电催化团簇与去离子水混合制备抛光液；S3.利用催化光源照射至工件待加工面、光电催化团簇和柔性工具的耦合区域，同时为工件的导电托盘施加偏压，控制其电位并在光电催化团簇与工件之间形成空间电场；S4.对柔性工具头施加法向负载并设置转速，产生流体动压力使工具头与工件表面保留的间隙，通过流场驱动间隙内的抛光液流动，在界面光电协同催化作用下实现原子级精度的可控去除。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江大学 一种光电流场驱动团簇催化原子级确定性加工方法

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