申请/专利权人：三星(中国)半导体有限公司;三星电子株式会社

申请日：2020-01-03

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN111223136B

主分类号：G06T7/50

分类号：G06T7/50;G06T7/73;G06N3/0464

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2020.06.26#实质审查的生效;2020.06.02#公开

摘要：提供一种稀疏2D点集的深度特征提取方法及装置。稀疏2D点集的深度特征提取方法包括：根据输入的稀疏2D点集数据，生成所述稀疏2D点集数据的具有空间层次的包括关键点集和局部点集的点集结构数据；分别对关键点集和局部点集进行关系特征编码，得到关键点集的关系特征编码和局部点集的关系特征编码；根据关键点集的关系特征编码和或局部点集的关系特征编码分别提取所述输入的稀疏2D点集数据的全局特征和或局部特征，从而实现了稀疏点集深度网络特征的完整准确提取。此外，对稀疏2D点集进行深度特征提取得到的全局特征和或局部特征可以用于估计预设对象的6自由度位姿，还可以用于对输入的稀疏2D点集数据进行分割。

主权项：1.一种稀疏2D点集的深度特征提取方法，包括：根据输入的稀疏2D点集数据，生成所述稀疏2D点集数据的具有空间层次的包括关键点集和局部点集的点集结构数据，所述点集结构数据中包括所述关键点集的每个关键点与所述局部点集的局部子点集之间的一一对应关系；使用多层的空间关系特征编码器，同时分别对所述关键点集和所述局部点集进行关系特征编码，得到关键点集的关系特征编码和局部点集的关系特征编码，其中，对所述局部点集的关系特征编码是采用非局部编码的方式进行的；根据所述关键点集的关系特征编码和或所述局部点集的关系特征编码分别提取所述输入的稀疏2D点集数据的全局特征和或局部特征。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三星(中国)半导体有限公司;三星电子株式会社 稀疏2D点集的深度特征提取方法及装置

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