申请/专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司

申请日：2024-01-09

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117891079A

主分类号：G02B27/09

分类号：G02B27/09;G02B3/02;G02B27/30

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明涉及微纳集成光学技术领域，公开了一种高斯光束整形系统及设计方法，高斯光束整形系统由单模光源至阵列均匀点阵结构的方向依次包括第一准直透镜、高斯光束聚焦透镜和第二准直透镜，第一准直透镜靠近单模光源，第一透镜面型为平凸非球面，平面朝向光源面，主要是实现发散的高斯光束的准直，输出光斑光强分布仍维持高斯特性；高斯光束聚焦透镜面型为平凸非球面，平面朝向光源面，主要是实现将第一透镜准直的高斯光束整形为平顶光束；第二准直透镜面型为平凸非球面，平面朝向光源面，主要是实现将聚焦透镜整形汇聚的平顶光束准直扩束目的。

主权项：1.一种高斯光束整形系统，所述高斯光束整形系统位于单模光源1和阵列均匀点阵结构5之间，其特征在于，所述高斯光束整形系统由单模光源1至阵列均匀点阵结构5的方向依次包括第一准直透镜2、高斯光束聚焦透镜3和第二准直透镜4；所述第一准直透镜2靠近单模光源1，所述第二准直透镜4靠近阵列均匀点阵结构5，所述第一准直透镜2的面型为平凸非球面型，其中平面面型朝向单模光源1，所述高斯光束聚焦透镜3的面型为平凸非球面型，其中平面朝向单模光源1，所述第二准直透镜4的面型为平凸非球面型，其中平面朝向单模光源1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华天慧创科技(西安)有限公司 一种高斯光束整形系统及设计方法

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