申请/专利权人：中国人民解放军空军军医大学

申请日：2024-01-22

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117883202A

主分类号：A61C9/00

分类号：A61C9/00;A61C13/34;A61C13/00;A61C13/08;A61N1/05;A61N1/36;A61N1/375

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明公开了一种下颌全口义齿式舌神经刺激器的制备方法，属于口干燥症治疗设备技术领域。包括以下步骤：制备上、下颌印模及模型；在下颌终模型上制作舌神经刺激器原型，并于舌神经刺激器原型上制作颌堤，上颌制作颌堤；根据垂直距离确认咬合关系；转移颌架，根据咬合关系在颌堤上排列人工牙，形成义齿蜡型；将义齿蜡型复位于终模型上制取终印模，并留置注入孔和排气孔；除蜡后将人工牙复位于所形成的义齿印模，舌神经刺激器原型复位于下颌终模型；通过义齿印模的注入孔注入热塑性树脂；固化后获得下颌全口义齿式舌神经刺激器。本发明有效将舌神经刺激器在口内应用，在缓解无牙颌口干燥症患者口干的同时，进一步改善全口义齿的修复效果。

主权项：1.一种下颌全口义齿式舌神经刺激器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：分别制取患者上颌初印模和下颌初印模并翻制初模型，根据初模型尺寸及形态使用光固化树脂溶液在所述初模型上制作个别托盘；根据所述个别托盘制取终印模，翻制分别得到上颌终模型和下颌终模型；在所述下颌终模型上采用三明治法制作舌神经刺激器原型，并按照牙槽嵴形状在舌神经刺激器原型上制作下颌颌堤；在所述上颌终模型上制作上颌颌堤；确定鼻底到颏底的垂直距离，佩戴舌神经刺激器原型及上、下颌颌堤；根据垂直距离确认咬合关系，将上颌颌堤、下颌颌堤和舌神经刺激器原型复位于上颌终模型和下颌终模型上，转移颌位关系到标准颌架上，根据咬合关系分别排列人工牙形成上颌义齿蜡型和下颌义齿蜡型；将所述上颌义齿蜡型和下颌义齿蜡型上分别复位于上颌义齿终模型和下颌义齿终模型上，制取义齿印模，并留置注入孔和排气孔；将所述上颌义齿蜡型和下颌义齿蜡型进行除蜡处理，然后将舌神经刺激器复位到下颌义齿终模型上，将人工牙复位于义齿印模上，将下颌义齿终模型和义齿印模进行复位，通过注入孔注入热塑性树脂溶液直至热塑性树脂溶液从排气孔排出；热固化、分离后获得下颌全口义齿式舌神经刺激器。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国人民解放军空军军医大学 一种下颌全口义齿式舌神经刺激器的制备方法

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