申请/专利权人：瓦克化学股份公司

申请日：2018-12-18

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113784920B

主分类号：C01B33/107

分类号：C01B33/107

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2021.12.28#实质审查的生效;2021.12.10#公开

摘要：本发明涉及在流化床反应器中通过使含氢和四氯化硅的反应气体与含硅和催化剂的颗粒接触物质反应来制备氯硅烷的方法，其中氯硅烷的通式为HnSiCl4‑n和或HmCl6‑mSi2，其中n＝1至4且m＝0至4，其特征在于，反应器设计由指数K1描述、接触物质的构成由指数K2描述、反应条件由指数K3描述，其中K1的值是1至20，K2的值是0.001至200，以及K3的值是0.5至10000。

主权项：1.一种在流化床反应器中通过使含氢和四氯化硅的反应气体与含硅和催化剂的颗粒接触物质反应来生产氯硅烷的方法，其中所述氯硅烷的通式为HnSiCl4-n和或HmCl6-mSi2，其中n＝1-4且n不等于4，以及m＝0-4，其特征在于，-反应器设计由指数K1描述 其中 是根据以下等式计算的： 其中pdiff＝流化床上的压降[kgm*s2]，和ρp＝接触物质的颗粒固体密度[kgm3]，Vreactor，eff＝反应器的有效体积[m3]，相当于反应器内部的总体积减去所有内部构件，Atot,cooled＝反应器中通过激光测量或3D扫描测量的热交换器单元的冷却表面积的总和[m2]，dhyd＝水力反应器直径[m]，dhyd是根据以下等式计算的： 其中Aq，free＝内部中形成流化床的反应器部分的自由流动横截面[m2]，Utot,wetted＝所有内部构件的润湿周长[m]，其中VReactor，eff为1至300m3，以及dhyd为0.5至2.5m；-所述接触物质的构成用指数K2描述 其中BAK＝接触物质的粒径分布的宽度[μm]，BAK根据以下等式得出：BAK＝d90-d10，d32＝颗粒索特直径[μm]，是接触物质的平均等体积粒径，RSi＝硅的纯度，δrel＝接触物质中的相对催化剂分布，δrel是根据以下等式计算的： 其中λ＝催化剂硅颗粒的质量比，Ospec，cat＝催化剂的平均比表面积[m2kg]和Ospec，SiK＝硅颗粒的平均比表面积[m2kg]，其中平均比表面积是根据BET法ISO9277通过气体吸附来确定的，其中δrel为0.001至7，d32为10至2000μm，BAK为10至1500μm，以及RSi为0.75至0.99999；-反应条件用指数K3描述 其中uL＝反应器内部的气态反应混合物的表观气速[ms]，νF＝反应器内部的气态反应混合物的运动粘度[m2s]，ρF＝反应器内部的气态反应混合物的密度[kgm3]，pdiff＝流化床上的压降[kgm*s2]，g＝重力加速度[ms2]，其中pdiff为10000至200000kgm*s2，uL为0.05至2ms，ρF为2至20kgm3，以及νF为3*10-7至5.4*10-6m2s；其中K1的值为2至20，K2的值为0.001至200，以及K3的值为0.5至10000。

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权利要求：

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