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【发明授权】新型总剂量仿真方法及其与单粒子耦合仿真方法、装置_西安电子科技大学_202110217570.6 

申请/专利权人:西安电子科技大学

申请日:2021-02-26

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN112836386B

主分类号:G06F30/20

分类号:G06F30/20

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2021.06.11#实质审查的生效;2021.05.25#公开

摘要:本发明公开了一种新型总剂量仿真方法及其与单粒子耦合仿真方法、装置,新型总剂量仿真方法包括:利用TCAD工具Sentaurus软件的SDE进行抗辐照器件建模得到用于抗辐照研究的三维器件结构,并利用修改参数文件激活Radiation模型;利用激活后的Radiation模型进行总剂量的仿真研究。本发明采用激活后的Radiation模型模拟总剂量TID效应,更加准确,因此对其与单粒子SEE的耦合研究也更加准确。

主权项:1.一种新型总剂量仿真方法,其特征在于,包括:利用TCAD工具Sentaurus软件的SDE进行抗辐照器件建模得到用于抗辐照研究的三维器件结构,并利用修改参数文件激活Radiation模型;其中,所述利用修改参数文件激活Radiation模型包括:针对BOX层使用“新型氧化物半导体材料”代替SiO2;将“新型氧化物半导体材料”的参数文件内容换成SiO2的参数文件内容;在第一Sdevice的Physics部分加入Radiation模型,以激活Radiation模型;利用激活后的Radiation模型进行总剂量的仿真研究。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安电子科技大学 新型总剂量仿真方法及其与单粒子耦合仿真方法、装置

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