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【发明授权】一种电弧增材制造沉积层的工艺数据库构建方法_上海航天精密机械研究所_202110986328.5 

申请/专利权人:上海航天精密机械研究所

申请日:2021-08-26

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN113792028B

主分类号:G06F16/21

分类号:G06F16/21;B23K9/04

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2021.12.31#实质审查的生效;2021.12.14#公开

摘要:本发明实施例提供了一种电弧增材制造沉积层的工艺数据库构建方法,其特征在于,包括步骤:根据使用熔融丝材的种类建立对应的牌号和直径;建立基板材料对应的牌号;建立电弧增材热源种类及其工艺模式;建立保护气种类;输入单道沉积层宽度;建立匹配的沉积层形貌曲线,及其特征尺寸;建立电弧增材相关工艺参数。实现电弧增材制造沉积层形貌及尺寸与基板材料及状态、电弧增材热源种类及工艺模式参数、摆动参数、起熄弧参数、导电嘴端面与沉积层距离、层间温度范围、基板初始温度和保护气流速匹配,满足预设沉积层宽度要求同时实现电弧增材制造成形质量的主动控制且能实现沉积层形貌变化规律预测,提高了电弧增材制造成形件表面质量、成形精度和成形效率,且能保证成形件的力学性能。

主权项:1.一种电弧增材制造沉积层的工艺数据库构建方法,其特征在于,包括步骤:步骤1:根据使用熔融丝材的种类建立对应的牌号和直径;步骤2:建立基板材料对应的牌号及状态;步骤3:建立电弧增材热源种类及其工艺模式;步骤4;建立保护气种类;步骤5:输入单道沉积层宽度;步骤6:建立匹配的沉积层形貌曲线,及其特征尺寸,该步骤6中,电弧增材制造沉积层的形貌包括起弧头部、沉积层中部及熄弧尾部的形貌曲线;起弧头部的特征尺寸包括:起弧半径、起弧宽度、起弧高度、起弧长度、起弧润湿角;沉积层中部的特征尺寸包括:沉积层宽度、沉积层高度、润湿角;熄弧尾部的特征尺寸包括:熄弧弧半径、熄弧宽度、熄弧长度、熄弧润湿角;步骤7:建立电弧增材相关工艺参数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海航天精密机械研究所 一种电弧增材制造沉积层的工艺数据库构建方法

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