申请/专利权人：艾克塞利斯科技公司

申请日：2020-03-19

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113632197B

主分类号：H01J37/08

分类号：H01J37/08;H01J27/02;H01J49/10

优先权：["20190322 US 62/822,313"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.03.15#实质审查的生效;2021.11.09#公开

摘要：离子源配置成形成离子束并且具有电弧室，电弧室围封电弧室环境。储集器装置可以配置为推斥极并且向电弧室环境提供液态金属。偏置电源相对于电弧室对储集器装置进行电偏置，以使液态金属在电弧室环境中蒸发形成等离子体。储集器装置具有杯体和封盖，杯体和封盖限定用于液态金属的储集器环境，储集器环境通过封盖中的孔与电弧室环境流体联接。部件从杯体延伸到储集器中并接触液态金属，以通过毛细作用将液态金属朝向电弧室环境馈送。结构、表面积、粗糙度和材料改变毛细作用。该部件可以是延伸到液态金属中的环形圈、杆或管。

主权项：1.一种离子源，其配置成形成离子束，所述离子源包括：电弧室，其大体上围封电弧室环境；储集器装置，其配置成向所述电弧室环境提供液态金属；以及偏置电源，其配置成使所述储集器装置相对于所述电弧室而电偏置；所述储集器装置包括杯体，所述杯体具有凹槽，所述凹槽配置成在其中大体上容纳所述液态金属；其中，所述储集器装置还包括封盖，其中，所述封盖选择性地与所述杯体接合并且大体上围封所述储集器装置的顶部部分，在所述顶部部分中限定与所述液态金属相关联的储集器环境；以及其中，所述封盖还包括延伸到所述凹槽中的一个或多个部件，其中，所述一个或多个部件配置成接触所述凹槽内的所述液态金属并且经由毛细作用将所述液态金属朝向所述电弧室环境馈送。

全文数据：

权利要求：

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