申请/专利权人：ISTEQ私人有限公司;ISTEQ集团控股有限公司

申请日：2021-08-04

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN116235277B

主分类号：H01J65/04

分类号：H01J65/04

优先权：["20200806 RU 2020126302","20200806 US 16/986,424","20210219 US 17/180,063"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2023.06.23#实质审查的生效;2023.06.06#公开

摘要：提供了一种激光泵浦等离子体光源。该等离子体光源包括充填高压气体的腔室、等离子体点火装置、在所述强势中由连续波CW激光器的聚焦射束维持的辐射等离子体区域、和离开所述腔室的等离子体辐射射束。该腔室包括管道、底部和盖子。该管道的一端与该底部气密连接，而该管道的另一端与该盖子气密连接。该管道和该底部由光学透明材料制成。该底部被布置成将该CW激光器的该聚焦射束引入到该腔室中。该管道被配置为使所述等离子体辐射射束在垂直于该CW激光器的该射束并且穿过该辐射等离子体区域2的平面中，以至少70％的方位角从该腔室中离开。该盖子配备有进气口。

主权项：1.一种激光泵浦等离子体光源，所述激光泵浦等离子体光源包括：充填高压气体的腔室1、等离子体点火装置、所述腔室1中由连续波CW激光器4的聚焦射束维持的辐射等离子体区域2、和等离子体辐射射束5，其特征在于所述腔室1包括管道11、底部12和盖子13；所述管道11的一端与所述底部12气密连接，而所述管道11的另一端与所述盖子13气密连接；所述管道11和所述底部12由光学透明材料制成；所述底部12被布置成将所述CW激光器4的所述聚焦射束引入到所述腔室1中；所述管道11被配置为使所述等离子体辐射射束5在垂直于所述CW激光器4的所述射束并且穿过所述辐射等离子体区域2的平面中，以至少70％的方位角从所述腔室中离开；并且所述盖子13配备有进气口14；其中所述CW激光器的所述射束借助于光学系统聚焦在所述腔室中，所述光学系统包括所述腔室的所述底部12和聚焦光学元件16，所述聚焦光学元件的表面被配置为最大限度地减小所述光学系统的总像差，其中所述聚焦光学元件16是非球面透镜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ISTEQ私人有限公司;ISTEQ集团控股有限公司 高亮度激光泵浦等离子体光源和用于降低像差的方法

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