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【发明授权】一种高纯度呋喃二烯晶体及其制备方法_合肥市未来药物开发有限公司_202011433382.9 

申请/专利权人:合肥市未来药物开发有限公司

申请日:2020-12-10

公开(公告)日:2024-04-19

公开(公告)号:CN113372314B

主分类号:C07D307/93

分类号:C07D307/93

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.19#授权;2021.09.28#实质审查的生效;2021.09.10#公开

摘要:本发明涉及一种高纯度呋喃二烯晶体及其制备方法,该方法通过醇类溶剂将呋喃二烯粗品溶解,在一定温度下析晶,得到高纯度的呋喃二烯晶体。采用本发明的方法制备得到的呋喃二烯晶体,与传统柱层析提取、浓缩得到的粉末状呋喃二烯和采用石油醚重结晶得到的呋喃二烯相比,不仅纯度高,而且具有较高的稳定性。

主权项:1.一种高纯度呋喃二烯晶体,其结构式如化学式I所示,其特征在于,使用Cu-Ka辐射,所述晶体以2θ±0.2°衍射角表示的X射线粉末衍射图谱在13.580±0.2°,14.058±0.2°,15.221±0.2°,17.086±0.2°,19.046±0.2°,19.642±0.2°,21.081±0.2°,22.057±0.2°,24.287±0.2°,24.641±0.2°,26.426±0.2°,27.516±0.2°,28.220±0.2°,30.078±0.2°,30.459±0.2°处有特征峰

全文数据:

权利要求:

百度查询: 合肥市未来药物开发有限公司 一种高纯度呋喃二烯晶体及其制备方法

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