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【发明授权】使用弱标记检测半导体试样中的缺陷_应用材料以色列公司_202110455269.9 

申请/专利权人:应用材料以色列公司

申请日:2021-04-26

公开(公告)日:2024-04-19

公开(公告)号:CN113763312B

主分类号:G06T7/00

分类号:G06T7/00

优先权:["20200603 US 16/892,139"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.19#授权;2023.05.02#实质审查的生效;2021.12.07#公开

摘要:公开了使用弱标记检测半导体试样中的缺陷。公开了一种对半导体试样上的感兴趣图案POI进行分类的系统,所述系统包括处理器和存储器电路,所述处理器和存储器电路被配置为:获得所述POI的高分辨率图像,并且根据缺陷相关分类生成可用于对所述POI进行分类的数据,其中所述生成利用已经根据训练样本训练的机器学习模型,所述训练样本包括:高分辨率训练图像,所述高分辨率训练图像是通过扫描试样上的相应训练图案捕获的,所述相应训练图案与所述POI相似;以及标签,所述标签与所述图像相关联,所述标签是所述相应训练图案的低分辨率检视的衍生物。

主权项:1.一种对半导体试样上的感兴趣图案POI进行分类的系统,所述系统包括处理器和存储器电路PMC,所述处理器和存储器电路PMC被配置为:获得提供所述试样上的所述POI的高分辨率图像的信息的数据;以及生成可用于根据缺陷相关分类对所述POI进行分类的数据,其中所述生成利用已经根据至少多个训练样本训练的机器学习模型,每个训练样本包括:高分辨率训练图像,所述高分辨率训练图像是通过扫描试样上的相应训练图案捕获的,所述相应训练图案与所述POI相似,和标签,所述标签与所述图像相关联,所述标签是所述相应训练图案的低分辨率检视的衍生物;其中所述系统还包括:一个或多个低分辨率检查工具,所述低分辨率检查工具被配置为捕获所述POI的低分辨率图像并利用所述低分辨率图像的光学检视来根据缺陷相关分类对所述POI进行分类;和一个或多个高分辨率检查工具,所述高分辨率检查工具被配置为响应于所述一个或多个低分辨率工具将所述POI分类为有缺陷而捕获所述POI的所述高分辨率图像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料以色列公司 使用弱标记检测半导体试样中的缺陷

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