申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-08-26

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117940852A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20210927 EP 21199182.3"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.26#公开

摘要：公开了一种根据衬底上的目标确定聚焦参数的方法。该目标包括同焦的第一子目标和非同焦的第二子目标。该方法包括：获得与第一子目标的测量结果相关的第一测量信号、与第二子目标的测量结果相关的第二测量信号、以及将至少所述第二测量信号与所述聚焦参数相关联的至少一个经训练的关系和或模型。根据所述第一测量信号、所述第二测量信号以及所述至少一个经训练的关系和或模型，确定所述聚焦参数的值。

主权项：1.一种根据衬底上的目标确定聚焦参数的方法，所述目标至少包括第一子目标和第二子目标，所述聚焦参数与曝光所述目标的光刻曝光过程的聚焦设置相关；所述方法包括：获得与所述第一子目标的测量结果相关的第一测量信号，所述第一子目标包括同焦结构；获得与所述第二子目标的测量结果相关的第二测量信号，所述第二子目标包括非同焦结构；获得将至少所述第二测量信号与所述聚焦参数相关联的至少一个经训练的关系和或模型；以及根据所述第一测量信号、所述第二测量信号以及所述至少一个经训练的关系和或模型，确定所述聚焦参数的值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于聚焦量测的方法以及相关联的设备

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