申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社

申请日：2019-05-27

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN112218844B

主分类号：C07C39/15

分类号：C07C39/15;C07C39/367;C07C49/83;C08G8/04;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26

优先权：["20180528 JP 2018-101599"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2021.03.26#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：本发明的目的在于，提供：对光刻用膜形成材料等有用的新型化合物等。前述目的可以通过下述式1所示的化合物而达成。

主权项：1.一种化合物，其由下述式1表示， 式1中，A为羰基、硫代羰基、亚甲基、亚乙基、亚丙基、或六氟亚丙基，R2～R5各自独立地为甲基或羟基，R4中的至少一者和或R5中的至少一者为羟基，m2'和m3'各自独立地为0～4的整数，m4'和m5'各自独立地为0～5的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法

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