申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日:2024-01-29
公开(公告)日:2024-04-30
公开(公告)号:CN117956853A
主分类号:H10K59/131
分类号:H10K59/131;H10K71/00;H01L23/60
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要:本申请提供一种阵列基板、阵列基板制备方法及显示装置,所述阵列基板包括衬底基板,包括像素区域和与所述像素区域紧邻的非像素区域;第一走线层,位于衬底基板的一侧,包括第一走线、第一静电释放部和尖端放电结构;第一走线、第一静电释放部和尖端放电结构位于所述非像素区域;第二走线层,位于衬底基板与所述第一走线层之间,或位于第一走线层远离衬底基板的一侧,包括第二走线;所述第二走线位于所述非像素区域。所述第一静电释放部的第一端与所述第一走线连接,所述第一静电释放部的第二端悬空;所述尖端放电结构和所述第一静电释放部连接。所述第二走线在所述衬底基板上的正投影与所述尖端放电结构在所述衬底基板上的正投影存在交叠。
主权项:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板,包括像素区域和与所述像素区域紧邻的非像素区域;第一走线层,位于所述衬底基板的一侧,包括第一走线、第一静电释放部和尖端放电结构;所述第一走线、所述第一静电释放部和所述尖端放电结构位于所述非像素区域;所述第一静电释放部的第一端与所述第一走线连接,所述第一静电释放部的第二端悬空;所述尖端放电结构和所述第一静电释放部连接;第二走线层,位于所述衬底基板与所述第一走线层之间,或位于所述第一走线层远离所述衬底基板的一侧,包括第二走线;所述第二走线位于所述非像素区域;所述第二走线在所述衬底基板上的正投影与所述尖端放电结构在所述衬底基板上的正投影存在交叠。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 阵列基板、阵列基板制备方法及显示装置
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