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【发明授权】电路板金手指斜坡结构的制造方法和电路板金手指_鹤山市中富兴业电路有限公司_202111618342.6 

申请/专利权人:鹤山市中富兴业电路有限公司

申请日:2021-12-24

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN114340212B

主分类号:H05K3/40

分类号:H05K3/40;H05K3/06;H05K1/11

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.30#授权;2022.04.29#实质审查的生效;2022.04.12#公开

摘要:本发明公开了电路板金手指斜坡结构的制造方法和电路板金手指,其中电路板金手指斜坡结构的制造方法,包括以下步骤:取外层线路加工好的电路板,电路板设有金手指,金手指与外层线路相连;压膜:在电路板上压一层干膜,干膜与金手指贴合,压膜的压力范围为5.5kgcm2至6.5kgcm2,压膜的温度范围为115℃至125℃;曝光显影:将负片菲林与压好干膜的电路板中的电路对位放置,且负片菲林在金手指的前端设计成挡光,采用曝光机对电路板曝光;曝光后使用显影液进行显影,以使金手指的前端裸露;蚀刻斜坡:利用药水的边沿进行侧蚀,将金手指的前端腐蚀成斜坡;退膜:使用退膜液将干膜清除。采用干膜开窗、蚀刻斜坡的方式加工金手指斜坡,加工成本低,插拔效果更好。

主权项:1.电路板金手指斜坡结构的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:取外层线路加工好的电路板,所述电路板设有金手指,所述金手指与所述外层线路相连;压膜:在所述电路板上压一层干膜,所述干膜与所述金手指贴合,其中,压膜的压力范围为5.5kgcm2至6.5kgcm2,压膜的温度范围为115℃至125℃;曝光显影:将负片菲林与压好所述干膜的所述电路板中的电路对位放置,且所述负片菲林在所述金手指的前端设计成挡光,采用曝光机对所述电路板曝光;曝光后使用显影液进行显影,以使所述金手指的前端裸露;蚀刻斜坡:利用药水的边沿进行侧蚀,将所述金手指的前端腐蚀成斜坡;退膜:使用退膜液将所述干膜清除。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 鹤山市中富兴业电路有限公司 电路板金手指斜坡结构的制造方法和电路板金手指

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