申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司

申请日：2023-06-06

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN220862142U

主分类号：B08B3/02

分类号：B08B3/02;B08B13/00

优先权：["20220606 US 17/833,814"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权

摘要：本发明提出一种支撑件和清洁设备。支撑件包括一环状基座以及配置在环状基座上的三个或更多个垂直延伸元件。每个垂直延伸元件包括在径向上延伸远离环状基座的中心的一搁架。垂直延伸元件均匀地绕环状基座配置。从搁架的顶面到垂直延伸元件的最高表面的距离与从环状基座的顶面到垂直延伸元件的最高表面的距离的比值介于0.05至0.5。搁架沿着径向延伸的长度与从环状基座的顶面到垂直延伸元件的最高表面的距离的比值介于0.05至0.8。

主权项：1.一种支撑件，其特征在于，包括：一环状基座以及配置于该环状基座上的三个或更多个垂直延伸元件，其中：每个垂直延伸元件包括一搁架，在一径向上延伸远离该环状基座的一中心，多个所述垂直延伸元件均匀地绕该环状基座配置，从该搁架的一顶面到该垂直延伸元件的一最高表面的距离与从该环状基座的一顶面到该垂直延伸元件的该最高表面的距离的比值介于0.05至0.5，以及该搁架沿着该径向延伸的长度与从该环状基座的该顶面到该垂直延伸元件的该最高表面的距离的比值介于0.05至0.8。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 支撑件和清洁设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD