申请/专利权人：富士胶片株式会社

申请日：2013-10-17

公开（公告）日：2020-01-10

公开（公告）号：CN110673447A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G03F7/32(20060101);B65D85/00(20060101);B65D25/14(20060101)

优先权：["20121031 JP 2012-240752","20130220 JP 2013-031277"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.12.16#发明专利申请公布后的驳回;2020.02.11#实质审查的生效;2020.01.10#公开

摘要：本发明可提供一种使用化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的图案形成方法，尤其在使用有机系显影液来形成微细化例如30nm节点以下图案的负型图案形成方法中，可减少微粒的产生。一种使用化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的图案形成方法，上述化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系显影液的碳数22以下的烷基烯烃含量为1ppm以下，且Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的金属元素浓度均为5ppm以下。

主权项：1.一种图案形成方法，包括：A通过将化学增幅型抗蚀剂组合物涂布于基板，由所述化学增幅型抗蚀剂组合物形成膜的工序；B对所述膜进行图案曝光的工序；以及C使用有机系显影液对经图案曝光的所述膜进行显影的工序；并且所述有机系显影液的碳数22以下的烷基烯烃含量为1ppm以下，且Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的金属元素浓度均为5ppm以下，所述有机显影液在显影前保存于容器，所述容器具有与所述有机显影液接触的内璧，所述内璧是由全氟树脂所形成，所述有机显影液在所述显影的工序C之前以聚四氟乙烯过滤器进行过滤。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 富士胶片株式会社 图案形成方法

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