申请/专利权人：东京应化工业株式会社

申请日：2018-09-21

公开（公告）日：2020-05-12

公开（公告）号：CN111149057A

主分类号：G03F7/004(20060101)

分类号：G03F7/004(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/20(20060101);H01L21/027(20060101)

优先权：["20170928 JP 2017-189042"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.06.23#授权;2020.06.05#实质审查的生效;2020.05.12#公开

摘要：本发明采用一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分A，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；以通式b1表示的化合物B1。[化1]式中，Rb1表示具有类固醇骨架的碳数为17～50的1价烃基。其中，所述烃基可以包含杂原子。Yb1表示包含选自由羧酸酯基、醚基、碳酸酯基、羰基以及酰胺基构成的组中的至少一种官能团的2价连接基团或单键。Vb1表示亚烷基、氟代亚烷基或单键。Rf1以及Rf2的一方为氢原子，另一方为氟原子。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。

主权项：1.一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有：基材成分A，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；以下述通式b1表示的化合物B1，[化1] 式中，Rb1表示具有类固醇骨架的碳数为17～50的1价烃基，其中，所述烃基可以包含杂原子，Yb1表示包含选自由羧酸酯基、醚基、碳酸酯基、羰基以及酰胺基构成的组中的至少一种官能团的2价连接基团或单键，Vb1表示亚烷基、氟代亚烷基或单键，Rf1以及Rf2的一方为氢原子，另一方为氟原子，m为1以上的整数，且Mm+表示m价的有机阳离子。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京应化工业株式会社 抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

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