申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2019-12-12

公开（公告）日：2020-06-19

公开（公告）号：CN111312622A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101)

优先权：["20181212 JP 2018-232179"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.11.09#授权;2021.03.16#实质审查的生效;2020.06.19#公开

摘要：本发明提供一种处理腔室，具有可装卸的盖部，用于对被处理基板实施加热处理，其能够抑制盖部下表面中的面向腔室内部空间的部分的温度降低。处理腔室10具有：腔室主体11，在上部具有开口111，用于容纳被处理基板S和对被处理基板进行加热的热源15；盖部12，相对于开口能够开闭；以及密封部14，当盖部相对于开口处于关闭状态时，在盖部与腔室主体之间包围开口来对盖部与腔室主体之间的间隙进行密封。盖部具有覆盖开口的板状体，在俯视时，板状体的周缘比与密封部接触的密封位置更向外侧突出，在板状体上结合有在密封位置的外侧沿周缘延伸的加强构件。

主权项：1.一种处理腔室，用于对被处理基板实施加热处理，其中，具有：腔室主体，在上部具有开口，用于容纳所述被处理基板和对所述被处理基板进行加热的热源；盖部，相对于所述开口能够开闭；以及密封部，当所述盖部相对于所述开口处于关闭状态时，在所述盖部与所述腔室主体之间包围所述开口来对所述盖部与所述腔室主体之间的间隙进行密封，所述盖部具有覆盖所述开口的板状体，在俯视时，所述板状体的周缘比与所述密封部接触的密封位置更向外侧突出，在所述板状体上结合有在所述密封位置的外侧沿所述周缘延伸的加强构件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 处理腔室以及基板处理装置

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