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【发明公布】显影设备_TCL华星光电技术有限公司_202010296165.3 

申请/专利权人:TCL华星光电技术有限公司

申请日:2020-04-15

公开(公告)日:2020-07-28

公开(公告)号:CN111458989A

主分类号:G03F7/30(20060101)

分类号:G03F7/30(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.09#授权;2020.08.21#实质审查的生效;2020.07.28#公开

摘要:本申请公开了一种显影设备,包括与基板侧壁相抵接的至少一支撑块,支撑块包括由依次平滑连接的第一凹形曲面、尖端及第二凹形曲面构成的复合曲面及第一平面,尖端包括依次平滑连接的第一面、接触面及第二面;第一面与第一凹形曲面平滑连接,接触面用于接触基板的一侧壁,第一面与第二凹形曲面平滑连接;第一面及第二面任意位置上的切面在沿基板侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1;在第一凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中,第一凹形曲面的曲率逐渐减小;在第二凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中,第二凹形曲面的曲率逐渐减小。本申请利用支撑块的复合曲面的平滑作用,使得显影液在流经支撑块时不因发生回流而导致过显影现象。

主权项:1.一种显影设备,用于基板的显影制程,其特征在于,所述显影设备包括用于固定所述基板的至少一个支撑块;所述支撑块包括一第一平面,以及依次平滑连接的一第一凹形曲面、一尖端及一第二凹形曲面;所述尖端包括依次平滑连接的一第一面、一接触面及一第二面;其中,所述第一面与所述第一凹形曲面平滑连接,所述接触面用于接触所述基板的一侧壁,所述第二面与所述第二凹形曲面平滑连接;并且,所述第一面及所述第二面任意位置上的切面在沿所述基板的所述侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1;在所述第一凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中,所述第一凹形曲面的曲率逐渐减小;以及,在所述第二凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中,所述第二凹形曲面的曲率逐渐减小。

全文数据:

权利要求:

百度查询: TCL华星光电技术有限公司 显影设备

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