申请/专利权人：IMEC 非营利协会;鲁汶天主教大学

申请日：2020-04-02

公开（公告）日：2020-10-20

公开（公告）号：CN111796481A

主分类号：G03F1/76(20120101)

分类号：G03F1/76(20120101);H01L21/027(20060101)

优先权：["20190404 EP 19167248.4"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.08#授权;2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要：本发明涉及无抗蚀剂图案化掩模以及一种在待图案化层100上形成图案化掩模的方法，所述方法包括以下步骤：a在待图案化层100上提供碳基层200；b用含卤素基团400使碳基层200的顶表面300官能化；c通过以图案化方式使顶表面300暴露于能源来部分去除含卤素基团400，从而形成包括第一区域510和第二区域520的图案，所述第一区域具有使表面官能化的含卤素基团400，所述第二区域520没有使表面官能化的含卤素基团400；以及d相对于第一区域510，在第二区域520上选择性形成金属、金属氧化物或金属氮化物600。

主权项：1.一种在待图案化层100上形成图案化掩模的方法，所述方法包括：a.在待图案化层100上方提供碳基层200；b.用含卤素基团400使碳基层200的顶表面300官能化；c.通过以图案化方式使顶表面300暴露于能源来部分去除含卤素基团400，从而形成包括第一区域510和第二区域520的图案，所述第一区域具有使表面官能化的含卤素基团400，所述第二区域520没有使表面官能化的含卤素基团400；以及d.相对于第一区域510，在第二区域520上选择性形成金属、金属氧化物或金属氮化物600。

全文数据：

权利要求：

百度查询： IMEC 非营利协会;鲁汶天主教大学 无抗蚀剂图案化掩模

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